Должность

старший научный сотрудник

Телефон

8 (3822) 491776

E-mail

shandrikov@hcei.ru

Проекты

Лаборатория плазменных источников (ЛПИ)

Учёная степень

кандидат технических наук (2005 г.)

Образование

ТУСУР, Факультет электронной техники, Кафедра «Электронные приборы и устройства», г.Томск (1996-2001 гг.)

Научные интересы

Учёная степень

ORCID

0000-0002-0844-0356

генерация газоразрядной и металлической низкотемпературной плазмы; разработка плазменных источников и исследования разрядов низкого давления; диагностика плазмы; плазменные методы нанесения функциональных покрытий

кандидат технических наук, 2005 г.

Researcher ID

HPI-0002-2023

Scopus

6506983874

РИНЦ Author ID

161950

SPIN-код

8613-8469

Участие в проектах РФФИ и РНФ

РФФИ 10-08-00321-а Физические основы синтеза оксидных композитных покрытий c использованием разрядной системы с инжекцией электронов. 2010-2012гг. (руководитель)
РФФИ 15-08-00058-а Исследование процессов функционирования планарного магнетронного разряда с инжекцией электронов. 2015-2017гг. (руководитель)
РФФИ 19-48-700003-р_а Исследование влияния параметров планарного магнетрона с инжекцией электронов в области предельно низких значений рабочего давления на структуру и свойства покрытий. 2019-2021гг. (руководитель)
РНФ 21-19-00136 Мощная магнетронная система в режиме самораспыления с внешней инжекцией электронов (основной исполнитель)

Участие в образовательной деятельности

Научное руководство студентами и аспирантами Томского государственного университета систем управления и радиоэлектроники (ТУСУР) и Томского государственного университета (ТГУ).

Премии, награды

Лауреат премии им. академика М.Ф.Жукова СО РАН
Лауреат премии Томской области в сфере образования, науки, здравоохранения и культуры» в номинации «Премии молодым научным и научно-педагогическим работникам, специалистам, докторантам и аспирантам в возрасте до 35 лет включительно», по разделу «Технические науки»

Список наиболее значимых публикаций

Gridless, very low energy, high-current, gaseous ion source//Review of Scientific Instruments 81 (2) 02B307 (2009) https://doi.org/10.1063/1.3259233
Boron ion beam generation using a self-sputtering planar magnetron// Review of Scientific Instruments 85 (2) 02C302 (2013) https://doi.org/10.1063/1.4824643
A bulk plasma generator based on a plasma cathode discharge// Instruments and Experimental Techniques 46 (3) 384-387 (2003) https://doi.org/10.1023/A:1024478708509
Generation of space charge compensated low energy ion flux// Review of Scientific Instruments 79 (2) 02B719 (2008) https://doi.org/10.1063/1.2823891
Inverted end-Hall-type low-energy high-current gaseous ion source// Review of Scientific Instruments 79 (2) 02B302 (2008) https://doi.org/10.1063/1.2801348
Low-energy dc ion source for low operating pressure// Review of Scientific Instruments 85, 083502 (2014) https://doi.org/10.1063/1.4891697
TRIATOMIC HYDROGEN ION GENERATION IN A LOW-PRESSURE GAS DISCHARGE // VACUUM, 162, 2019, 63-66, DOI: 10.1016/j.vacuum.2019.01.025
Planar magnetron discharge with confinement of injected electrons// Vacuum, 192, 2021, DOI10.1016/j.vacuum.2021.110487
Deposition of tungsten disilicide films by DC magnetron sputtering at ultra-low operating pressure// Surf&Coat.Techn., 422, 2021, DOI10.1016/j.surfcoat.2021.127501
Adhesion and friction performance of DLC/rubber: The influence of plasma pretreatment// Friction 9, 627–641 (2021) https://doi.org/10.1007/s40544-020-0436-6
Mass-to-charge ion composition of plasma in a magnetron discharge with reactive sputtering of titanium target// PLASMA PROCESSES AND POLYMERS, 18 (3) , DOI10.1002/ppap.202000210
Parameters and properties of a pulsed planar vacuum magnetron discharge// Vacuum, 2020, 178, 109400. doi.org/10.1016/j.vacuum.2020.109400
Deposition of Cu-films by a planar magnetron sputtering system at ultra-low operating pressure// Surface and Coatings Technology, 2020, 389, 125600. doi.org/10.1016/j.surfcoat.2020.125600
NBR surface modification by gaseous plasma source with electron injection// Surface and Coatings Technology, 2020, 388, 125556. doi.org/10.1016/j.surfcoat.2020.125556
Effects of gas pressure and discharge current on beam composition in a magnetron discharge ion source// Review of Scientific Instruments, 2019, 90(11), 113312. doi.org/10.1063/1.5125950
Effect of electron injection on the parameters of a pulsed planar magnetron// Vacuum, V.159, p. 200-203, 2019. https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2018.10.042
Ion mass-to-charge ratio in planar magnetron plasma with electron injections// JOURNAL OF PHYSICS D: APPLIED PHYSICS, V.51(41), 415201, 2018 https://doi.org/10.1088/1361-6463/aadbd6
Planar magnetron sputtering with supplementary electron injection// Vacuum, V.143, P. 458-463, 2017 DOI: 10.1016/j.vacuum.2017.02.011
Operating modes of a hydrogen ion source based on a hollow-cathode pulsed Penning discharge// Review of Scientific Instruments, V.87, 02B703 (2016). http://dx.doi.org/10.1063/1.4931800. - импакт-фактор 1,5
Magnetron discharge-based boron ion source// AIP Conference Proceedings 2011,090005 (2018)