Форвакуумный плазменный источник электронов
Характеристики
Рабочее давление, Па
—
от 1 до 100 (Давление рабочего газа(
Рабочие газы
—
гелий, остаточная атмосфера, кислород, азот, аргон, криптон , ацетилен
Область применения
—
модификация поверхностных свойств различных материалов, электронно-лучевой нагрев, плавка, сварка, пайка, спекание, фрезеровка диэлектрических изделий, синтез диэлектрических покрытий, генерация пучковой плазмы
Контакты
—
Институт сильноточной электроники СО РАН, (ИСЭ СО РАН)
634055, г. Томск, пр. Академический 2/3
Старший научный сотрудник
ШАНДРИКОВ Максим Валентинович
shandrikov@hcei.ru
8 (3822) 491776
634055, г. Томск, пр. Академический 2/3
Старший научный сотрудник
ШАНДРИКОВ Максим Валентинович
shandrikov@hcei.ru
8 (3822) 491776
Форвакуумный плазменный источник электронов
#PROP_TITLE#
—
#PROP_VALUE#
Форвакуумные плазменные источники электронов обладают уникальной возможностью непосредственной электронно-лучевой обработки диэлектрических материалов (высокотемпературные керамики, стекла, бориды карбиды, полимеры и др.), а также синтеза диэлектрических покрытий в результате электронно-лучевого испарения этих материалов.
ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ| Режим работы | непрерывный / импульсивный |
| Ускоряющее напряжение | до 20 кВ |
| Ток пучка | до 500 мА |
| Мощность пучка | до 10 кВт |
| Минимальный диаметр пучка | 0,5 мм |
| Плотность мощности | до 106 Вт/см2 |
| Давление рабочего газа | от 1 до 100 Па, (7•10-3— 0,7 Торр) |
| Рабочий газ | остаточная атмосфера, гелий, кислород, азот, аргон, криптон, ацетилен и др. |
| Охлаждение | водяное |
Области возможных применений: электронно-лучевой нагрев, плавка, сварка, пайка, спекание, фрезеровка диэлектрических изделий, синтез диэлектрических покрытий, генерация пучковой плазмы с концентрацией до 1012 см-3, и ее использование для модификации поверхностных свойств различных материалов.
Сотрудники
Телефон
E-mail
