Заведующий лабораторией
пучково-плазменной инженерии поверхности
ДЕНИСОВ Владимир Викторович
кандидат технических наук
vv.denisov@hcei.ru
8-913-807-2425
Наименование научной организации-разработчика
Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт сильноточной электроники Сибирского отделения Российской академии наук (ИСЭ СО РАН).
Технические характеристики вакуумной камеры
- Габаритные размеры вакуумной камеры (Д х Ш х В) 750 х 750 х 750 мм;
- Внутренний диаметр вакуумной камеры - 450 мм, масса – 250 кг;
- 6 фланцев для установки электрофизических устройств;
- Предельное давление остаточного газа не выше 1·10-3 Па;
- Охлаждение вакуумной камеры ‒ водяное, не более 0,5 м3/ч;
- 6-ти координатный манипулятор системы позиционирования образцов;
- Окна для ввода и вывода синхротронного излучения.
Типы устанавливаемых функциональных устройств
- Оригинальные генераторы газовой плазмы.
- Совершенные вакуумно-дуговые и магнетронные распылительные системы.
- Источники электронных и ионных пучков с уникальными параметрами.
- Другие новые электрофизические устройства для модификации поверхности.
- Возможность сочетания вышеперечисленных устройств в едином вакуумном технологическом цикле.
Область возможного применения
Исследования в области электронно-ионно-плазменного инжиниринга поверхности конструкционных и функциональных материалов, включая разработку многослойных, композиционных, градиентных и износостойких покрытий; определение механизмов синтеза заранее заданных структур поверхности.
Возможный технический и (или) экономический эффект от внедрения
Техническим результатом разработки является кратное (от нескольких лет до нескольких месяцев) снижение срока разработки и внедрения технологий модификации поверхности с требуемым комплексом свойств на поверхности конструкционных и инструментальных материалов, предназначенных, в том числе, для работы в экстремальных условиях.
Степень готовности разработки к практическому применению
Апробирована и используется с 2023 года в составе канала №6 источника СИ «ВЭПП-3» (ИЯФ СО РАН) для проведения поисковых и прикладных исследований в области создания новых электронно-ионно-плазменных технологий модификации поверхности.
Сравнительная характеристика с известными разработками.
Не имеет аналогов в России. По количеству комбинированных методов электронно-ионно-плазменной инженерии поверхности, которые могут использоваться для модификации поверхности, опережает мировые аналоги. Позволяет существенно сокращать сроки разработки новых технологических процессов инженерии поверхности.
Сведения о патентоспособности и патентной защите разработки
Подготавливается заявка на патент на изобретение.
Оборудование разработано и создано при финансовой поддержке Российской Федерации в лице Министерства науки и высшего образования (проект № 075-15-2021-1348).
