Области применения и особенности
Процесс объёмного нанесения алмазоподобных покрытий на поверхность металлических изделий с целью уменьшения коэффициента трения, увеличения поверхностной твердости и коррозионной стойкости.
Устройство
Процесс осаждения алмазоподобных покрытий осуществляется посредством газофазных реакций в объемной плазме. В качестве рабочей газовой среды используется смесь аргона с углеводород-содержащим газом (метан, пропан, ацетилен). Генерация плазмы в вакуумной камере осуществляется за счет ионизации газа пучком инжектированных электронов с оптимальной энергией, регулируемой посредством изменения напряжения основного несамостоятельного газового разряда. При этом регулирование тока и энергии пучка инжектированных электронов осуществляется независимо, что позволяет обеспечить оптимальные параметры разряда в зависимости от размеров камеры и рабочего давления. Конструкция разрядной системы обеспечивает 100% фильтрацию плазмы эмиттерного разряда от капельной фракции, а запатентованная конструкция эмиттера - неограниченный ресурс работы полого катода дугового разряда. Степень загрязнения газовой плазмы в вакуумной камере ионами металла не превышает 10-4 ат./ион.
Публикации
- Формирование а-С:Н покрытий на металле осаждением из объемной плазмы углеводородо-содержащих газов.// Материалы 3й Всероссийской конференции молодых ученых, Томск, 24-27 апреля, 2007, стр.442-445
- Formation of hard amorphous hydrogenated carbon films on metal by CVD method in acetylene plasma.// Известия ВУЗов.Физика, 2007, №9. Приложение, стр.460-463
- Deposition and Investigation of Amorphous Hydrogenated Carbon Films from Acetylene Plasma.// Proc. of 9th International Conference on modification of materials with particle beams and plasma flows, Tomsk, Russia, Sept 21-26, 2008, p.568-571
