Плазмогенератор «ПИНК» в протяжённой геометрии
Серия генераторов газовой плазмы «ПИНК» (плазменный источник с накалённым катодом) на основе несамостоятельного дугового разряда с накаленным катодом
Характеристики
Ток разряда
—
ПИНК П-04М: 5-100, ПИНК П-06М: 5-150, ПИНК П-12М: 5-250
Рабочее давление, Па
—
0,3—1,5
Рабочие газы
—
Аргон, Азот
Размеры выходной апертуры, мм
—
ПИНК П-04М: 400х70 , ПИНК П-06М: 600х70 , ПИНК П-12М: 1200х00
Неравномерность распределения плотности плазмы вдоль вертикальной оси, %
—
ПИНК П-04М: +/-5, ПИНК П-06М: +/-5, ПИНК П-12М: +/-7
Контакты
—
Ахмадеев Юрий Халяфович
зав. лабораторией,
кандидат технических наук
тел.: 8 (3822) 49-17-13, 49-24-10 (факс)
сот.: +7-923-408-62-84
E-mail: ahmadeev@hcei.ru
зав. лабораторией,
кандидат технических наук
тел.: 8 (3822) 49-17-13, 49-24-10 (факс)
сот.: +7-923-408-62-84
E-mail: ahmadeev@hcei.ru
Плазмогенератор «ПИНК» в протяжённой геометрии
#PROP_TITLE#
—
#PROP_VALUE#
Плазмогенератор может использоваться как независимо для создания плотной однородной плазмы в больших вакуумных объемах, так и использоваться для модернизации промышленных технологических установок (типа ННВ 6.6-И1, ВУ-1Б, ВУ-2, «Булат» и др.) для реализации комплексных технологий поверхностной обработки изделий, что существенно расширяет технологические возможности серийного оборудования и, соответственно, номенклатуру обрабатываемых изделий.
Использование протяженного плазмогенератора позволяет:
- обеспечить высокую энергетическую эффективность процесса генерации низкотемпературной объемной плазмы;
- уменьшить долю микрокапельной фракции в потоке плазмы вакуумных электродуговых испарителей;
- производить плазменную очистку, травление и активацию поверхности без подпыления ее парами материала катода;
- реализовать комплексную обработку изделий в едином вакуумном цикле, включая процессы финишной очистки, активации, электронно-ионно-плазменного азотирования поверхности и плазменно-ассистированного напыления функциональных покрытий;
- обеспечить формирование микро- и наноструктурированных покрытий, обладающих высокой твердостью (> 25 ГПа), повышенной (до 2-3 раз) износостойкостью, улучшенной коррозионной стойкостью и имеющих привлекательный внешний вид.
Реализуемые технологические процессы:
- Очистка, травление, отжиг, активация поверхности изделий.
- Азотирование поверхности изделий.
- Плазменно-ассистированное осаждение функциональных покрытий на изделия.
| Параметр | ПИНК П-04М | ПИНК П-06М | ПИНК П-12М |
|---|---|---|---|
| Ток разряда, А | 5—100 | 5—150 | 5—250 |
| Рабочее давление, Па | 0,3—1,5 | ||
| Рабочие газы | аргон, азот | ||
| Размеры выходной апертуры, мм | 400х70 | 600х70 | 1200х90 |
| Неравномерность распределения плотности плазмы вдоль вертикальной оси, % | ±5 | ±5 | ±7 |
Сотрудники
Заведующий лабораторией плазменной эмиссионной электроники (ЛПЭЭ) ИСЭ СО РАН, кандидат технических наук
Ахмадеев Юрий Халяфович
Телефон
E-mail
Заведующий лабораторией плазменной эмиссионной электроники (ЛПЭЭ) ИСЭ СО РАН

