Генератор газовой плазмы с холодным полым катодом в магнитном поле
Характеристики
Ток разряда
—
20—200 А
Рабочее давление, Па
—
0,1—1
Область применения
—
модификация поверхности материалов и изделий, Очистка, травление, отжиг, активация поверхности., Ионно- и плазменно-ассистированное осаждение функциональных покрытий.
Генератор газовой плазмы с холодным полым катодом в магнитном поле
#PROP_TITLE#
—
#PROP_VALUE#
Разработан генератор плазмы с холодным полым катодом для эффективной генерации плазмы реакционноспособных и химически активных газов в установках ионно-ассистированного осаждения функциональных покрытий. Газовая плазма, характеризующаяся плотностью ~ 1010 см-3 и температурой электронов ~ 3 эВ, генерируется в большом объеме (до 0,5 м3) с помощью самостоятельного дугового разряда с полым катодом при токах (20 — 200) A и давлениях (10-1
— 1) Па. Данный плазмогенератор состоит из цилиндрического полого катода, помещенного в аксиальное магнитное поле, и системы поджига дуги. Рабочая вакуумная камера играет роль полого анода. Инициируемое внутри полого катода катодное пятно вращается по круговой орбите, находясь в максимуме магнитного поля. В анодной области разряда генерируется плотная однородная низкотемпературная газовая плазма с минимальным содержанием микрокапельной фракции.
| Ток разряда, А | 20—200 |
| Напряжение горения, В | 20—40 |
| Ток магнитной катушки, А | 0,5 |
| Рабочее давление, Па | 0,1—1 |
| Концентрация плазмы, см-3 | 109—1010 |
Преимущества
- Эффективная ионизация химически активных газов (O2, CH4, и др.).
- Большой срок службы плазмогенератора
Области применения
- Очистка, травление, отжиг, активация поверхности.
- Модификация поверхности (азотирование, оксидирование и др.).
- Ионно- и плазменно-ассистированное осаждение функциональных покрытий.
Сотрудники
Заведующий лабораторией плазменной эмиссионной электроники (ЛПЭЭ) ИСЭ СО РАН, кандидат технических наук
Ахмадеев Юрий Халяфович
Телефон
E-mail
Заведующий лабораторией плазменной эмиссионной электроники (ЛПЭЭ) ИСЭ СО РАН

