Вакуумная ионно-плазменная установка для азотирования "ТРИО"

Изготовитель: Лаборатория плазменной эмиссионной электроники ИСЭ СО РАН
Страна происхождения: Россия
Год выпуска: 2008

НАЗНАЧЕНИЕ, КРАТКАЯ ХАРАКТЕРИСТИКА

Вакуумная ионно-плазменная установка «ТРИО» использует три уникальных плазмогенератора для синтеза газовой и металлической плотной плазмы, используемой для модификации поверхности материалов и изделий. Для генерации объёмной газовой плазмы используется плазменный источник с накалённым катодом «ПИНК», также разработанный в ИСЭ СО РАН.

ОСНОВНЫЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ

ВОЗМОЖНОСТИ И ОСОБЕННОСТИ

• возможность работы на смеси двух газов;
• возможность проведения комплексных процессов обработки, включающих ионную очистку, диффузионное насыщение и напыление покрытий
• возможность одновременного создания газовой и металлической плазмы в одном вакуумном объеме;
• широкий диапазон параметров;
• независимая регулировка основных параметров;
• нанесение твердых и сверхтвердых покрытий с регулируемой in situ стехиометрией;
• повышение коррозионной стойкости и износостойкости поверхности изделий;
• возможность одновременного или поочередного использования двух материалов катода;
• возможность использования композиционных катодов;
• обработка изделий сложной формы;
• глубина обработки до 500 мкм;
• нет специальных требований по размещению установки (низкая величина ускоряющего напряжения, не требуется дополнительная радиационная защита);
• использование манипулятора позволяет обрабатывать образцы с большой площадью поверхности или партию мелкоразмерных образцов или изделий.