Вакуумная ионно-плазменная установка для азотирования материалов и изделий
Характеристики
Потребляемая мощность
—
до 150 кВт
Рабочее давление, Па
—
0.01–10 Па
Область применения
—
модификация поверхности материалов и изделий
Контакты
—
Заведующий лабораторией плазменной эмиссионной электроники ИСЭ СО РАН
АХМАДЕЕВ Юрий Халяфович, +7 (3822) 491713, +7 923 408 6284, ahmadeev@hcei.ru
АХМАДЕЕВ Юрий Халяфович, +7 (3822) 491713, +7 923 408 6284, ahmadeev@hcei.ru
Вакуумная ионно-плазменная установка для азотирования материалов и изделий
#PROP_TITLE#
—
#PROP_VALUE#
Назначение
Формирование протяженных диффузионных нитридсодержащих слоев с повышенной износо- и коррозионной стойкостью.
Основные характеристики установки
| Размеры установки | 2500×2500×2800 мм |
| Размеры садки деталей | Ø700 h1200 мм |
| Максимальный вес загрузки | 500 кг |
| Потребляемая мощность | до 150 кВт |
| Рабочее давление | 0.01–10 Па |
| Водяное охлаждение | не более 5 м3/ч |

