Вакуумная электронно-пучковая установка «СОЛО»
Характеристики
Потребляемая мощность
—
2—5 кВт
Рабочее давление, Па
—
0.01—0.05 Па
Рабочие газы
—
Ar; N2
Область применения
—
модификация поверхности материалов и изделий
Контакты
—
Институт сильноточной электроники СО РАН, (ИСЭ СО РАН)
634055, г. Томск, пр. Академический 2/3
Заведующий лабораторией
плазменной эмиссионной электроники
АХМАДЕЕВ Юрий Халяфович
ahmadeev@hcei.ru
8 (3822) 491713, 8-923-408-6284
634055, г. Томск, пр. Академический 2/3
Заведующий лабораторией
плазменной эмиссионной электроники
АХМАДЕЕВ Юрий Халяфович
ahmadeev@hcei.ru
8 (3822) 491713, 8-923-408-6284
Вакуумная электронно-пучковая установка «СОЛО»
#PROP_TITLE#
—
#PROP_VALUE#
Изготовитель: Лаборатория плазменной эмиссионной электроники ИСЭ СО РАН
Страна происхождения: Россия
Год выпуска: 2008
Вакуумная электронно-пучковая установка «СОЛО» (входит в УНУ «УНИКУУМ» перечня объектов Современной исследовательской инфраструктуры Российской Федерации), в основе которой лежит электронный источник с плазменным катодом на основе импульсного дугового разряда низкого давления с сеточной стабилизацией границы катодной плазмы. Установка полностью автоматизирована и позволяет управлять параметрами электронного источника, вакуумной системы и манипулятора при помощи компьютера. Использование плазменного катода позволяет плавно и независимо друг от друга изменять параметры генерации электронного пучка, что является одним из основных конкурентных преимуществ данного электронного источника. Низкие энергии электронов (до 25 кэВ), используемые в электронном источнике, не требуют дополнительной радиационной защиты, так как генерируемое рентгеновское излучение полностью задерживается стенками камеры, изготовленными из нержавеющей стали толщиной 8 мм. По совокупности параметров (энергия электронов 5—25 кэВ, ток пучка 50—200 А, длительность импульса 10—200 мкс, частота следования импульсов тока пучка 1—10 с-1) данная установка превосходит зарубежные аналоги и может успешно использоваться для модификации поверхности различных материалов и изделий.
Страна происхождения: Россия
Год выпуска: 2008
Вакуумная электронно-пучковая установка «СОЛО» (входит в УНУ «УНИКУУМ» перечня объектов Современной исследовательской инфраструктуры Российской Федерации), в основе которой лежит электронный источник с плазменным катодом на основе импульсного дугового разряда низкого давления с сеточной стабилизацией границы катодной плазмы. Установка полностью автоматизирована и позволяет управлять параметрами электронного источника, вакуумной системы и манипулятора при помощи компьютера. Использование плазменного катода позволяет плавно и независимо друг от друга изменять параметры генерации электронного пучка, что является одним из основных конкурентных преимуществ данного электронного источника. Низкие энергии электронов (до 25 кэВ), используемые в электронном источнике, не требуют дополнительной радиационной защиты, так как генерируемое рентгеновское излучение полностью задерживается стенками камеры, изготовленными из нержавеющей стали толщиной 8 мм. По совокупности параметров (энергия электронов 5—25 кэВ, ток пучка 50—200 А, длительность импульса 10—200 мкс, частота следования импульсов тока пучка 1—10 с-1) данная установка превосходит зарубежные аналоги и может успешно использоваться для модификации поверхности различных материалов и изделий.
Основные характеристики:
| Габаритные размеры установки | 1350×2150×2000 мм |
| Размеры вакуумной камеры | 600×500×400 мм |
| Энергия электронов | 5—25 кэВ |
| Длительность импульса тока пучка | 20—200 мкс |
| Частота следования импульсов | 0.3—15 с-1 |
| Плотность энергии пучка | до 100 Дж/см2 |
|
Максимальная потребляемая мощность, в зависимости от используемого источника питания ускоряющего напряжения |
2—5 кВт |
| Рабочее давление | 0.01—0.05 Па |
| Рабочий газ | Ar; N2 |
| Диаметр отпечатка | 1—3 см |
| Размеры области сканирования манипулятора | 165×180 мм |
| Расход воды в системе охлаждения не менее чем | 0.5 м3/ч |
НАЗНАЧЕНИЕ
- Полировка, упрочнение металлов и сплавов, включая твердые карбидные сплавы типа WC-Co и TiC-NiCr;
- повышение коррозионной стойкости и износостойкости поверхности;
- обработка систем покрытие/подложка с возможностью перемешивания материала покрытия (толщиной ~ 1 мкм) с материалом подложки на глубину до 20 мкм;
- электронно-пучковая абляция материала мишени с возможностью нанесения покрытий.
Возможности и особенности
- высокая плотность энергии пучка при низком ускоряющем напряжении;
- широкий диапазон параметров;
- независимая регулировка параметров;
- возможность работы в частотном режиме;
- продолжительное время работы без обслуживания;
- обработка поверхности (полировка, упрочнение) металлов, различных сплавов включая твердые карбидные сплавы типа WC-Co и TiC-NiCr;
- повышение коррозионной стойкости и износостойкости поверхности изделий;
- обработка систем «покрытие/подложка» с возможностью перемешивания материала покрытия (толщиной ~ 1 мкм) с материалом подложки на глубину до 20 мкм;
- электронно-пучковая абляция материала мишени с возможностью нанесения различных покрытий и их последующим перемешиванием с материалом подложки в одном цикле вакуумной откачки;
- обработка изделий сложной формы (штампы, пресс-формы) путём перемещения манипулятора;
- глубина обработки (1—20) мкм;
- удобство управления с помощью персонального компьютера;
- нет специальных требований по размещению установки (низкая величина ускоряющего напряжения, не требуется дополнительная радиационная защита);
- использование манипулятора позволяет обрабатывать образцы с большой площадью поверхности или партию мелкоразмерных образцов или изделий;
- средства диагностики позволяют управлять параметрами электронного пучка.
Новости
Сотрудники
Заведующий лабораторией плазменной эмиссионной электроники (ЛПЭЭ) ИСЭ СО РАН, кандидат технических наук
Ахмадеев Юрий Халяфович
Телефон
E-mail
Заведующий лабораторией плазменной эмиссионной электроники (ЛПЭЭ) ИСЭ СО РАН
Вам может понравиться
#PROP_TITLE#
#PROP_VALUE#
