Ионно-плазменная установка для комплексной обработки поверхности материалов и изделий "КВИНТА"

Изготовитель: Лаборатория плазменной эмиссионной электроники ИСЭ СО РАН
Страна происхождения: Россия
Год выпуска: 2012

НАЗНАЧЕНИЕ

Ионно-плазменная очистка, активация поверхности из-делий, формирование азотированного подслоя, вакуумно-дуговое плазменно-ассистированное напыление функцио-нальных покрытий. Виды покрытий: TiN, CrN, ZrN, TiAlN, AlCrN, AlMgB14, AlTiCrNbMo, (AlTiCrNbMo)N и др., многослойные и градиентные покрытия.

Основные характеристики

ВОЗМОЖНОСТИ И ОСОБЕННОСТИ

• возможность работы на смеси двух газов;
• возможность проведения комплексных процессов обработки, включающих ионную очистку, диффузионное насыщение и напыление покрытий
• возможность одновременного создания газовой и металлической плазмы в одном вакуумном объеме;
• широкий диапазон параметров;
• независимая регулировка основных параметров;
• нанесение твердых и сверхтвердых покрытий с регулируемой in situ стехиометрией;
• повышение коррозионной стойкости и износостойкости поверхности изделий;
• возможность одновременного или поочередного использования двух материалов катода;
• возможность использования композиционных катодов;
• обработка изделий сложной формы;
• глубина обработки до 500 мкм;
• нет специальных требований по размещению установки (низкая величина ускоряющего напряжения, не требуется дополнительная радиационная защита);
• использование манипулятора позволяет обрабатывать образцы с большой площадью поверхности или партию мелкоразмерных образцов или изделий;
• увеличенная область однородной обработки изделий;
• автоматизация управления вакуумной системой;
• автоматизированная стабилизация рабочего давления;
• автоматизированная стабилизация состава газовой смеси;
• автоматизация управления параметрами технологического цикла;
• возможность создания новых технологических процессов по технологической карте;
• возможность автоматического проведения заданных технологических процессов.